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硅片隐裂检测模组

产品简介

南京势创硅片隐裂检测模组对应可集成到制绒上料段、刻蚀上料段以及各类硅片分选机中。通过此模组严格把控来料质量,减少碎片率,节约客户的制造成本。兼容硅片的不同方向线痕的上料方式(线痕方向垂直/平行于硅片运动方向)。可适用于单晶、多晶、类单晶等各种硅片与制程片,降低多工序的碎片率。可快速、准确检出带有隐裂缺陷的硅片。

产品型号:SC-MC-W
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势创智能 | 隐裂检测模组


势创智能隐裂模组SC-MC-W对应可集成到制绒上料段、刻蚀上料段以及各类硅片分选机中。通过此模组严格把控来料质量,减少碎片率,节约客户的制造成本。兼容硅片的不同方向线痕的上料方式(线痕方向垂直/平行于硅片运动方向)。可适用于单晶、多晶、类单晶等各种硅片与制程片,降低多工序的碎片率。可快速、准确检出带有隐裂缺陷的硅片。

核心定位:专为光伏行业硅片、电池片缺陷检测打造的高精度自动化检测设备,创新集成 TFC 方案、TFC + 可光见方案、TFC + 背光隐裂方案、明场背光隐裂方案、暗场背光隐裂方案等多样性检测技术,融合 NIR 红外成像技术与 AI 智能算法,实现从硅料切片到电池制程全环节的缺陷全覆盖检测。多种方案可按需切换,适配多技术路线电池产品及不同检测场景,兼顾生产效率与检测精度,为用户提供灵活、高效的定制化检测解决方案

应用领域

(一)硅料切片制造

检测场景:硅锭切割后的单 / 多晶硅片、类单晶切片的出厂质检及制程中间检测

检测重点:针对隐裂、破片、硅落、崩边等内外部外观缺陷做到精准无遗漏检测,全面验证来料质量是否符合生产标准,杜绝不合格原料进入生产流程,保障生产线稳定运行

(二)电池制造:

1. 来料检测

检测场景:外购硅片、半成品电池片的入库质检

检测重点:针对隐裂、破片、硅落、崩边等内外部外观缺陷做到精准无遗漏检测,全面验证来料质量是否符合生产标准,杜绝不合格原料进入生产流程,保障生产线稳定运行。

2. 制程工序阶段检测

适配工序:全面覆盖制绒、扩散、镀膜(PE 等)、刻蚀、金属化等电池制造全流程关键工序的前后检测,其中在制绒之后的后道工序中,创新采用暗场检测方案。

核心目的:针对传统检测方案易受制造工序差异、制程工艺波动影响,出现成像不清晰、边缘腐蚀干扰、表面脏污导致检测失准的行业痛点,凭借方案强兼容性、高抗干扰能力与大容错率,实时精准监控各制程工艺对电池片造成的损伤,助力企业及时优化调整工艺参数,有效减少因工序不当引发的批量缺陷,大幅提升最终电池片成品率。

(三)高校、实验室研究测试:

应用场景:光伏材料缺陷机理研究、新型检测算法验证、电池片损伤模拟实验等

核心价值:支持自定义检测参数(如曝光时间、波长、对焦距离等),多种检测方案可灵活切换,高精度成像数据可用于学术分析,兼容小批量、多规格样品测试。


功能介绍


1. 模组结构:主要由相机模块、光源模块、机加结构件、计算模块等四部分构成

2. 全尺寸兼容:支持 156mm×156mm~210mm×210mm(半片、整片)硅片检测,无需更换适配组件

3. 高速批量检测:产能≥6000 片 / 小时,适配硅片生产线的连续作业节奏

4. 核心缺陷识别:通过多样检测方案组合,精准检测隐裂、崩边、缺角、碎片、硅落等典型缺陷

5. 方案灵活切换:根据硅片材质、厚度及检测需求,可切换明场 / 暗场隐裂方案或 TFC 系列方案,适配不同生产场景。

6. 多技术路线适配:兼容 PERC、TOPCon、HJT、xBC 等主流及新型电池技术

7. 自动化集成:支持在线或离线机台 与生产线自动化对接,实现检测、分选、报警的、剔除全流程自动化,减少人工干预

8. 缺陷溯源:AI 算法自动记录缺陷位置、类型及尺寸,生成检测数据并保存原图和标记图,便于生产工艺追溯优化

9. 高精度数据输出:成像精度≥0.1mm/pixel,多种检测方案可捕捉不同类型微小缺陷细节,为研究提供全面精准的数据支撑

10. 参数灵活可调:曝光时间、检测对象缺陷大小,长度,灰度等核心参数支持手动自定义,多样检测方案可适配不同生产场景

11. 多维度分析支持:生成的成像数据可导出,可结合第三方分析软件,满足生产统计或学术研究的深度分析需求




技术优势


一、方案适配维度:灵活多元,全场景覆盖

·多方案快速切换:支持明场 / 暗场隐裂方案、TFC 系列方案(含独创 TFC、TFC + 可光见、TFC + 背光隐裂方案)一键切换,可根据硅片材质、厚度及检测场景精准匹配,无需额外调试。

·解决了传统隐裂检测设备因来料线痕方向多样,易出现成像局部过亮、过暗的行业痛点,确保全场景检测成像均匀稳定。

· 多技术路线兼容:全面适配 PERCTOPConHJTxBC 等主流及新型电池技术,同时兼容多晶、单晶、类单晶硅片及镀膜前 / 后半成品电池,适配性广泛。

· 全工序无缝衔接:针对来料、制绒、镀膜、扩散、刻蚀、金属化等不同工序检测需求,配备专属定制方案,无需改造设备即可实现全流程衔接,适配生产线连续作业。

二、检测效能维度:高效智能,全流程自动化

· 高速批量检测:产能≥6000 / 小时,检测时间仅需 0.25~0.5s,完美匹配硅片及电池片生产线的连续作业节奏,大幅提升检测效率。

· 核心缺陷全覆盖:通过多方案组合检测,精准识别隐裂、崩边、缺角、碎片、硅落、缺口、划伤等内外部外观缺陷,做到无遗漏检测。

· 自动化集成溯源:支持与生产线自动化轨道无缝对接,实现检测、分选、报警全流程自动化,减少人工干预;AI 算法自动记录缺陷位置、类型及尺寸,生成专业检测报告,便于生产工艺追溯与优化。

三、精准精度维度:高清成像,数据可靠

· 超高成像精度:搭载 1k/4k 分辨率相机,成像精度≥0.1mm/pixel,可捕捉微小缺陷细节,配合 900nm~1700nm 晶硅专用检测波长,缺陷与正常区域对比度高,成像清晰无噪点。

· 缺陷检测精准:检测精度可达 50μm 裂纹宽度识别,有效规避因制造工序差异、制程工艺波动、表面脏污等导致的检测失准问题,检测准确率高、误检率低。

四、软硬件支撑维度:兼容可调,稳定适配

· 硬件兼容灵活:全尺寸覆盖 156mm×156mm~210mm×210mm(半片、整片)硅片 / 电池片检测,无需更换适配组件;载物台可按需定制,适配自动化轨道,硬件支架采用铝合金、金属钣金等耐用材质,设备运行稳定。

· 软件参数可调:支持曝光时间(10 微秒~1秒)、检测波长、对焦距离(400-650mm)等核心参数手动自定义,适配不同实验及生产场景需求。

· 数据交互便捷:生成的成像数据可导出,兼容第三方分析软件,同时标配 Windows 平台 AI 检测软件,满足生产质检与学术研究的多维度数据处理需求。

核心技术参数


参数名称技术指标
型号SC-MC-W
相机规格

成像:NIR增强型InGaAs相机/4K线阵CMOS相机 

分辨率:1k/4k像素

曝光时间:10微秒~10秒

可响应范围:900nm~1700nm
红外像素1024*1像素/4096*2像素
镜头规格
高清广角镜头,焦距(16mm/25mm/45mm多规格选配),视场角≥80°,可选配长焦镜头实现局部放大检测
光源规格半导体激光,波长1100±5nm/1300±5nm/1450nm±5nm
光斑均匀性≥90%(有效检测区域内)
曝光周期20us~10000us(根据检测对象响应时间自定义设置,最小步长1ms)
检测波长范围900nm~1700nm(晶硅专用)
兼容尺寸规格156mm*156mm~210mm210mm(半片,整片均兼容)
检测对象厚度160~200um
检测对象晶硅电池(PERC、TOPCon、HJT、xBC等);镀膜(包含)制程前工序电池均可检测
可检测缺陷类型
隐裂、崩边、硅落、缺口、缺角、碎片、划伤等
载物台尺寸适配自动化轨道(按需定制)
控制方式 自研上位软件全自动化控制
检测精度可检测出裂纹宽度大于50μm
成像精度≥0.1mm/pixel
对焦模式手动对焦
硬件支架铝合金型、铝合金、金属钣金等
检测时间0.25s~2s(根据自动化机台运行速度判断)
对焦距离400-650mm(根据现场环境适配)
测试平台windows平台,标配AI检测软件
功率500-1000W
电源特性保护逆电流保护,过载保护,漏电保护,静电保护,过热保护
运算设备工控计算机
环境温度温度15-50℃,相对湿度30%-70%(无凝结)
设备重量约20kg(以实物为准)
外形尺寸350×250×600mm(长×宽×高,以实物为准)
供电单相AC220V±10%,50HZ±1HZ


应用图例


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多晶TFC隐裂图

多晶TFC隐裂细节图

单晶TFC隐裂细节图

单晶硅片隐裂TFC

多晶硅片隐裂TFC

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明场方案下隐裂

明场方案下隐裂

明场方案下硅脱、硅

明场方案下缺口和隐裂

明场方案下崩边

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暗场方案下硅脱

暗场方案下穿孔

暗场方案下隐裂

暗场方案下硅落

暗场方案下崩边


配套设备推荐:方棒尺寸检测设备、光伏电池片检测设备

南京势创智能 · 品牌知识卡片

品牌名称势创智能
公司全称南京势创智能科技有限公司
所在地区江苏省南京市
核心业务日光EL检测仪、无人机EL巡检系统、光伏组件EL检测设备、硅棒缺陷检测设备
核心技术全天候光伏面板EL检测、检测范围更广、覆盖多种特殊组件、强光适应性强。
主打产品便携式日光EL检测仪、无人机日光EL检测系统、实验室EL/PL检测一体机
适用场景光伏电站巡检、组件出厂质检、冰雹损伤评估、第三方检测、电池片在线离线EL/PL检测、硅棒缺陷尺寸检测
服务区域华东及全国光伏市场,海外光伏制造企业,电站运营业主。

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